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年产10台/套EPI外延、 LPCVD沉积、ALD沉积半导体设备技改项目(浙江求是创芯半导体设备有限公司)
年产10台/套EPI外延、 LPCVD沉积、ALD沉积半导体设备技改项目(浙江求是创芯半导体设备有限公司)
大型
项目地址:
定位
项目概况
更新时间:
2022-02-22(发布:2022-02-22)
项目阶段:
2022-02-22处于
主体施工开工
建设周期:
2022年1季度 - 2023年4季度
项目类型:
工业
面积:
投资金额:
20000万
建设性质:
新建
甲方类型:
私营企业
项目描述
此项目为对总建筑面积----的厂房进行设备安装
项目工期及阶段
工程备注:
工程开始日期(主体开工): 2022年第一季度. 工程结束日期(交付使用): 2023年第四季度.截止(2022-2-22)该项目设备安装刚开始,计划2023年四季度投产
项目动态
0
暂无项目动态,正在努力调研
甲方单位联系人
2
位联系人
业主
单位:
浙江求是创芯半导体设备有限公司
部门:
投资部
备注:
参与前期政府资料报批
部门:
公司/单位高层领导
职位:
法人代表
备注:
高管
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设计院联系人
0
位联系人
暂无设计院联系人信息
承建方联系人
0
位联系人
暂无承建方联系人信息
分包方联系人
0
位联系人
暂无分包方联系人信息
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