此项目占地面积约----,建筑面积约----,为对年产10000吨高纯二氧化硅半导体基础材料、1000吨高纯石英管、30000只高纯石英坩埚项目进行设备安装,包括:
高纯度二氧化硅半导体基础材料生产区、二氧化硅提纯车间、原料仓库、高纯石英管生产区(拉管车间、脱羟车间、检测包装车间、石英管成品库)高纯石英坩埚生产区(坩埚熔制车间、物理加工车间、化学清洗车间、涂钡封装车间、坩埚成品库)办公及附属配套设施.主要设备有焙烧炉、烤砂机、浮选机、反应釜、颚破机、冷却机、空气能、磁选机、电磁振动给料机、拉管机、制氮机、氮气净化器、冷却塔、真空脱羟炉、常压脱羟炉、进口涂层机、高纯水机组、制氮机组等.产品主要原材料是石英原矿,辅料有盐酸、氢氟酸、氯气,氢气、高纯石墨电极.主要工艺精选原矿、水洗、煅烧水淬、粗破、摇床清选、脱水、自动色选、细破、磁选、浮选、脱药、酸洗、脱酸、去离子水洗、超纯水洗、干燥、气氛提纯、综合处理、冷却、成品包装.项目建成后年产10000吨高纯二氧化硅半导体基础材料、1000吨高纯石英管、30000只高纯石英坩埚
工程备注: 工程开始日期:2022年第四季度,工程结束日期:2022年第四季度