拓荆科技(上海)半导体先进工艺装备研发与产业化项目(拓荆科技(上海)有限公司) 大型
项目地址： 
定位
定位 项目概况
更新时间： 2024-09-29（发布：2023-03-20）
项目阶段： 2024-09-29处于室内装修单位确定
建设周期： 2023年2季度 - 2025年4季度
项目类型：工业、教育及研究设施
面积：
投资金额： 93000万
建设性质： 新建
甲方类型： 外资、合资企业
项目描述
本项目主要新建厂房以及地下室,占地面积约18704.05平米,总建筑面积90701.34平米.其中地上建筑面积:79531.94平米,地下建筑面积:11169.40平米.2.厂房主要用于半导体先进工艺装备半导体研发与产业化生产
项目工期及阶段
工程备注： 该项目主体封顶,装修单位刚刚确定,还未进场,近期准备进场开工.
项目动态 2
2023-06-04
新增:主体
2023-03-20
新增:施工
甲方单位联系人
1 位联系人
设计院联系人
1 位联系人
承建方联系人
1 位联系人
分包方联系人
3 位联系人