第四十五研究所)光刻机研发中心综合厂房(北京半导体专用设备研究所(中国电子科技集团公司) 大型
项目地址： 
定位
定位 项目概况
更新时间： 2024-02-20（发布：2023-09-28）
项目阶段： 2024-02-20处于主体施工
建设周期： 2023年4季度 - 2025年4季度
项目类型：教育及研究设施
面积：
投资金额： 17503万
建设性质： 新建
甲方类型： 政府部门、国企、事业单位
项目描述
一项工业发展,占地面积为----,总建筑面积为----,包括: 2#综合厂房,用于研发 地下室
项目工期及阶段
工程备注： 截止(2023年2月5日)该项目施工图设计图纸出了,施工已经进场施工
项目动态 0
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