光掩膜版制造项目(浙江省宁波市)
大型

项目地址：

定位

项目概况

更新时间： 2024-01-16（发布：2023-12-18）

项目阶段： 2024-01-16处于主体施工开工

建设周期： 2023年1季度 - 2025年4季度

项目类型：工业

面积：

投资金额： 160994.66万

建设性质：新建

甲方类型：私营企业

项目描述

年产12450片半导体光掩膜版:新建数栋厂房,用于生产45-28nm成熟制程的半导体光掩膜版

项目工期及阶段

工程备注： 2023-1-8跟踪记录:1、手续办理情况:该项目前期手续已完成.2、设计完成情况:该项目设计已完成,由信息产业电子第十一设计研究院科技工程股份有限公司负责.3、土建施工情况:该项目主体工程已施工,施工由中国电子系统工程第四建设有限公司负责.4、设备采购情况:该项目部分设备已采购.5、项目变化情况:该项目阶段未发生变化,增加了施工单位和设计院的联系人及联系方式.