投影光刻机曝光光学系统研发及批量生产基地项目(北京北京市)
大型

项目地址：

定位

项目概况

更新时间： 2024-02-09（发布：2024-02-08）

项目阶段： 2024-02-09处于主体施工开工

建设周期： 2023年1季度 - 2024年4季度

项目类型：工业、工业

面积：

投资金额： 92500万

建设性质：新建

甲方类型：私营企业

项目描述

建筑面积----

项目工期及阶段

工程备注： 2024-1-31跟踪记录:1、手续办理情况:该项目前期手续已办理.2、设计完成情况:该项目设计已完成,由中国电子工程设计院有限公司(中国电子工程设计院)、中国电子工程设计院综合所(原电子部十院)、北京世源希达工程技术公司(中国电子工程设计院)负责.3、土建施工情况:该项目土建施工已完成,由北京博大经开建设有限公司、北京合顺建筑装饰工程有限公司、北京市园林设计工程有限公司负责.4、设备采购情况:该项目大部分设备已采购.5、项目变化情况:该项目阶段未发生变化,增加了施工方的联系人及联系方式.