SiC功率器件生产线建设项目(厦门士兰明镓化合物半导体有限公司)
大型

项目地址: 定位

项目概况

更新时间: 2023-11-15(发布:2023-11-14)
项目阶段: 2023-11-15处于立项审批

建设周期: 2022年3季度 - 2025年2季度

项目类型:其他公共建筑
面积:
投资金额: 150000万
建设性质: 改扩建
甲方类型: --
项目描述
项目位于福建省厦门市海沧区兰英路99号,建筑面积65985.98----米,用地面积45680.817----米, 本项目在厦门士兰明镓现有芯片生产线厂房内及配套设施的基础上,引进具有国际先进水平的光刻机、刻蚀机、高温氧化炉等设备以及配套SiC厂房装修和动力设备扩容等,形成年产14.4万片SiC功率器件芯片的生产能力;主要产品类别为:SiC MOS ,SiC SBD芯片, 采用SiC深槽刻蚀、高温氧化/退火/注入、多层栅介质工艺、SiC金属欧姆接触形成等工艺技术,以及SiC MOSFET工艺集成制造技术等,达产后预计实现年不含税销售收入209,742万元
项目工期及阶段
工程备注: 截止目前2023年11月14日,该项目处于立项阶段,预计2022年3季度开工

项目动态 0

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