8吋硅基光电子异质集成工艺线(湖北新为光微电子有限公司)

大型

面向高速光通信领域，8吋硅基光电子异质集成工艺线购置配套了硅基光电子异质集成工艺所需的光刻、刻蚀、薄膜沉积、研磨等关键工艺设备20余台套，预期达产后可实现年产能三万片，年产值10000万元。