纳米级薄膜芯片项目(装修)(山东阳扬新材料科技有限责任公司)

项目地址：

定位

项目概况

更新时间： 2024-12-25（发布：2024-12-25）

项目阶段： 2024-12-25处于室内设计完成

建设周期： 2024年3季度 - 2025年1季度

项目类型：工业、办公楼、交通枢纽及仓储

面积：

投资金额： 3000万

建设性质：室内装修

甲方类型：私营企业

项目描述

此项目占地面积1513.34,总建筑面积----,利用现有电子信息产业园4＃厂房进行装修改造成设置1层车间----,2层仓库----,办公室----.拟建设真空磁控溅射镀膜生产线4条,真空蒸镀设备1套,检测设备3套,主要利用金属靶材及非金属靶材,在金属衬底或非金属衬底(晶圆)上利用真空磁控溅射镀膜为半导体产业核心制程.工艺流程:衬底清洗-电化学抛光-清洗烘干-缓冲层制备(依设计单位需要)-超导层溅镀-介质层溅镀-超导层溅镀-缓冲层处理-成品检测-分切-封装-后处理(依设计单位需要)项目建成后能达到年代工镀膜直径3.5"～4"膜厚40纳米20万片,20纳米1万片,3纳米10万片的生产规模

项目工期及阶段

工程备注：截止到2024年12月18日，该项目装修进度60-70%