面向先进制程的高平坦度12英寸双面抛光设备技术研发及产业化项目(浙江晶盛机电股份有限公司)

开展面向先进制程的高平坦度12英寸双面抛光设备技术研发，突破抛头柔性均匀加压等关键技术，有效提升晶圆表面均匀度，实现年产10台（套）12英寸单晶硅片双面化学机械抛光机产业化，实现关键核心零部件和耗材自主研发及国产化替代。