本项目设计年产能为蚀刻型28.673万㎡(59.775吨)和冲压型301.665万㎡(5450.1816吨),合计330.338万㎡(5509.9566吨)。车间建筑面积21,198.81----米,包含生产区、仓储区及辅助功能区。主要产品为蚀刻型和冲压型集成电路引线框架,年产能分别为1500万条和416亿只,规格多样,满足半导体封装需求。核心设备包括高精度冲压机、自动化蚀刻生产线等,技术标准严格,如基材厚度精度±0.008mm,蚀刻线宽公差≤±0.025mm,冲压成型良品率≥99.5%,符合ISO 9001和RoHS标准。
工程备注: 截止目前2025年3月26日,该项目处于立项阶段,预计2025年1季度开工