开平依利安达新一代信息产业园项目(开平依利安达电子第三有限公司)
大型

项目地址: 定位

项目概况

更新时间: 2025-05-07(发布:2025-05-07)
项目阶段: 2025-05-07处于立项审批

建设周期: 2025年2季度 - 2027年4季度

项目类型:工业、市政公用设施
面积:
投资金额: 100000万
建设性质: 新建
甲方类型: 外资、合资企业
项目描述
扩建项目新增产能为135.26万m2/年的高阶HDI以及高密度任意互连HDI(Anylayer HDI)印刷电路板,其中,三阶~六阶的高阶HDI印刷电路板115.94万m2/年,HDI(任意阶)Anylayer印刷电路板19.32万m2/年。扩建项目新增占地面积为114191m2,建筑总面积为21.29万m2,主要建设有1栋生产厂房、1座污水处理厂(配套铜回收系统、危废仓、一般固废仓、应急池、纯水房)、1座原材料仓、2座锅炉房等。
项目工期及阶段
工程备注: 截止目前2025年5月7日,该项目处于立项阶段,预计2025年2季度开工

项目动态 1

2025-05-07
更新项目概

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