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高性能存储器生产多层厂房及办公展厅建设项目(得一微电子股份有限公司)
高性能存储器生产多层厂房及办公展厅建设项目(得一微电子股份有限公司)
大型
优质
项目地址:
定位
项目概况
更新时间:
2026-08-26(发布:2025-07-03)
项目阶段:
2026-08-26处于
项目立项已完成
建设周期:
2026年3季度 - 2028年4季度
项目类型:
工业、办公楼、文娱康乐
面积:
投资金额:
150000万
建设性质:
新建
甲方类型:
私营企业
项目描述
本项目总占地面积----,总建筑面积----。主要建设内容按主次顺序依次为:多层厂房、办公楼及展厅。
项目工期及阶段
工程备注:
截止目前(2025年08月04日),该项目施工单位未定
项目动态
2
2026-08-26
新增人员:
2025-08-04
新增:业主
甲方单位联系人
5
位联系人
业主
单位:
得一微电子股份有限公司
职位:
董事长
职位:
副总经理
备注:
参与设备技术对接
职位:
厂长
职位:
经理
备注:
参与前期政府资料报建
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设计院联系人
0
位联系人
暂无设计院联系人信息
承建方联系人
0
位联系人
暂无承建方联系人信息
分包方联系人
0
位联系人
暂无分包方联系人信息
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