高性能存储器生产多层厂房及办公展厅建设项目(得一微电子股份有限公司)
大型优质

项目地址: 定位

项目概况

更新时间: 2026-08-26(发布:2025-07-03)
项目阶段: 2026-08-26处于项目立项已完成

建设周期: 2026年3季度 - 2028年4季度

项目类型:工业、办公楼、文娱康乐
面积:
投资金额: 150000万
建设性质: 新建
甲方类型: 私营企业
项目描述
本项目总占地面积----,总建筑面积----。主要建设内容按主次顺序依次为:多层厂房、办公楼及展厅。
项目工期及阶段
工程备注: 截止目前(2025年08月04日),该项目施工单位未定

项目动态 2

2026-08-26
新增人员:
2025-08-04
新增:业主

甲方单位联系人

5 位联系人

业主

职位: 董事长
职位: 副总经理
备注:参与设备技术对接
职位: 厂长
职位: 经理
备注:参与前期政府资料报建

设计院联系人

0 位联系人
暂无设计院联系人信息

承建方联系人

0 位联系人
暂无承建方联系人信息

分包方联系人

0 位联系人
暂无分包方联系人信息
首页返回顶部会员权益