项目规模及内容:项目建筑面积为----,占地面积----。产品为12英寸晶圆,设计生产能力达年产48万片。主要建设内容按主次顺序包括:厂房装修、生产线设备安装。主要设备涵盖化学机械抛光(CMP)设备、化学气相沉积(CVD)设备、扩散(Diff)设备、光刻(Litho)设备、刻蚀(Etch)设备、离子注入(Imp)设备、湿法刻蚀(Wet)设备等。本项目符合《产业结构调整指导目录(2019年本)》修正版中二十八、信息产业19条,线宽0.8微米以下集成电路制造的相关要求。
工程备注: 截止(2026年7月1日),该项目总承包单位已进场,计划于2029年12月底完工