项目规模及内容:项目总建筑面积为----,占地面积----。产品为12英寸晶圆,设计年生产能力达48万片。主要建设内容按主次顺序包括:厂房装修、生产线设备安装等。核心设备涵盖化学机械抛光(CMP)设备、化学气相沉积(CVD)设备、扩散(Diff)设备、光刻(Litho)设备、刻蚀(Etch)设备、离子注入(IMP)设备及湿法刻蚀(Wet)设备等。本项目符合《产业结构调整指导目录(2019年本)》修正版中第二十八类信息产业第19条,即线宽0.8微米以下集成电路制造的相关要求。
工程备注: 截止(2026年09月09日),该项目主体工程已正式启动施工