深中慧谷一期二标段功率半导体分立器件封装测试产业基地项目(中山市慧谷总部投资开发有限公司)
大型

项目地址: 定位

项目概况

更新时间: 2025-11-07(发布:2025-11-07)
项目阶段: 2025-11-07处于立项审批

建设周期: 2025年4季度 - 2027年4季度

项目类型:工业
面积:
投资金额: 47870万
建设性质: 新建
甲方类型: 私营企业
项目描述
项目(一期二标段)占地面积20716.82----米,建筑面积18819.17----米,建设2栋厂房,包括生产厂房、研发测试中心、动力厂房、研发办公楼等。建成后形成年产6亿颗功率半导体分立器件的封装测试、模组制造等生产能力。
项目工期及阶段
工程备注: 截止目前2025年11月7日,该项目处于立项阶段

项目动态 0

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