年产万吨集成电路光刻及工业光敏纳米打印新材料生产设施建设项目(广东省江门市)

大型

拟于现有土地上实施新建工程，主要建设内容包括：主厂房----、研发及宿舍综合楼----。项目以集成电路光刻新材料及工业光敏纳米打印新材料为核心生产方向，总投资13000万元，其中设备购置费5500万元、基本建设费5000万元、流动资金2500万元。建设周期24个月，达产后预计实现年产值20000万元、年税收贡献1000万元。