高美可半导体设备核心部件研发制造项目(高美可科技(惠州)有限公司)
大型

项目地址: 定位

项目概况

更新时间: 2026-01-07(发布:2026-01-07)
项目阶段: 2026-01-07处于立项审批

建设周期: 2026年2季度 - 2027年4季度

项目类型:工业、工业、教育及研究设施
面积:
投资金额: 12000万
建设性质: 新建
甲方类型: --
项目描述
项目占地面积17000----米,建筑面积20400----米(包括1栋厂房、1栋办公研发楼),主要购置APS等离子火焰喷涂设备6套,MCT龙门机床设备5套,真空烘箱及烤箱3套,阳极氧化生产线2条,合计安装6条生产线,从事半导体设备核心部件的研发维修及制造,达产后年产值3亿元,年缴税1700万元。
项目工期及阶段
工程备注: 截止目前2026年1月7日,该项目处于立项阶段

项目动态 0

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