40nm-28nm半导体掩模版生产线项目(珠海市龙图光罩科技有限公司)

大型

本项目拟生产40nm-28nm工艺节点半导体掩模版，项目规划占地面积 约2,500 ----米，建设面积约7,850 ----米，设计年产能为1.5万片，主要生产配套设备涵盖光刻、显影、刻蚀、清洗及检测等类别。