大型多重高精度镀膜系统及配套设施(中国科学院赣江创新研究院)

1. 高温超导带材缓冲层精准镀膜系统 (1) 电源：直流/射频/中频/脉冲直流电源 (2) 功率：最大5kW (3) 靶形式：圆靶或矩形靶，单靶、多靶、孪生靶可选（平面矩形，成膜材料：陶瓷材料） (4) 真空室尺寸: 可定制 (5) 真空系统：机械泵+分子泵（真空泵组可选） (6) 极限真空：5×10-5Pa (7) 烘烤温度：最高400℃，PID 可调可控 (8) 基片台：水冷或加热可选，最高1000℃ 2. 离子束辅助精确沉积镀膜系统 (1) 溅射源：矩形射频离子源 (2) 辅助源：矩形射频离子源 (3) 规格：6×22cm 或6×66cm 可选 (4) 束流能量：100 至1500eV (5) 真空室尺寸：定制 (6) 真空系统：机械泵+低温泵（或钛升华泵、溅射离子泵、分子泵组） (7) 极限真空：5×10-7Pa (8) 烘烤温度: 最高400℃，PID 可调可控 (9) 预留RHEED（反射式高能电子衍射装置）安装位置