半导体设备用高纯氧化铝静电卡盘开发及产业化项目(广东省潮州市)
大型

项目地址: 定位

项目概况

更新时间: 2026-04-30(发布:2026-04-30)
项目阶段: 2026-04-30处于立项审批

建设周期: 2026年2季度 - 2029年1季度

项目类型:工业
面积:
投资金额: 18000万
建设性质: 新建
甲方类型: 私营企业
项目描述
本项目利用原有厂房进行建设,购置先进的生产及检测设备,突破半导体级精密陶瓷部件及其材料的制造技术,项目完成后实现高纯氧化铝静电卡盘及其粉体的国产化替代,最终建成年产500片高纯氧化铝静电卡盘的生产线。
项目工期及阶段
工程备注: 截止目前2026年4月30日,该项目处于立项阶段

项目动态 0

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