高端半导体掩膜版生产基地建设项目(一期)(佛山清溢微电子有限公司)
大型

项目地址: 定位

项目概况

更新时间: 2026-03-02(发布:2026-02-28)
项目阶段: 2026-03-02处于建设工程规划许可

建设周期: 2025年9月 - 2026年7月

项目类型:工业
面积:
投资金额: 150000万
建设性质: 新建
甲方类型: 私营企业
项目描述
总建筑面积:----,其中地下室建筑面积:----,建筑层数:地上4层,地下:1层,计容面积:----,基底面积:----。建筑高度:23.7米。附图及附件名称:1、取得建设工程规划许可证一年后尚未开工的,建设单位(个人)应当在有效期届满三十日前向原许可机关申请办理延期手续,延长期限不得超过六个月。未办理延期手续或者办理延期手续逾期仍未开工的,建设工程规划许可证自行失效。2、建设工程开工前,建设单位或者个人应当委托具有相应测绘资质的单位放线,并申请验线。未经验线,建设工程不得开工。3、附件为总平面图、立面图。4、该项目于2024年07月16日核发建设工程规划许可证,许可证有效期按该日期起算。5、本证经告知承诺制批出。6、2025年8月25日,告知承诺制批后抽查批出,请按最新已批图纸实施。指标调整如下:建筑面积由----调整为----,计容面积由----调整为----,基底面积由----调整为----,地下室建筑面积由----调整为----,原图纸作废,其余指标不变。6、2026年2月27日规划变更,请按最新已批图纸实施。指标调整如下:建筑面积由----调整为----,计容面积由----调整为----,基底面积由----调整为----,原图纸作废,其余指标不变。
项目工期及阶段
工程备注: 截止目前2026年2月28日,该项目处于设计阶段

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