年产3.6万片200毫米(英寸)氮化镓射频晶圆生产线项目(安徽省池州市) 大型
项目地址： 
定位
定位 项目概况
更新时间： 2026-01-07（发布：2026-01-07）
项目阶段： 2026-01-07处于主体施工单位中标
建设周期： 2026年2季度 - 2027年1季度
项目类型：工业、工业
面积：
投资金额： 480000万
建设性质： 新建
甲方类型： 政府部门、国企、事业单位
项目描述
建设年产3.6万片200毫米（8英寸）氮化镓射频晶圆生产线项目：
1. 建设内容
- 核心生产区域：建设洁净厂房（Class10/100），总面积42000----米，涵盖8英寸GaN-on-Si外延生长区、光刻区、刻蚀区、薄膜沉积区、离子注入区、化学机械抛光（CMP）区以及电性测试区。
项目工期及阶段
工程备注： 截止(2026年6月27日)，该项目处于主体施工阶段
项目动态 1
2026-01-07
新增人员:
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