沈阳先进制程半导体设备研发及产业化基地建设项目(辽宁省沈阳市)

大型

先进制程半导体设备产业化基地新建项目： 本项目规划用地面积39315万㎡，总建筑面积4万㎡（最终面积以规划部门审定结果为准）。主要建设内容按主次顺序如下：首先建设厂房、附属用房及配套设施；其次购置厂务排风控制机组、空气压缩机等设备；最终开展浸没式14纳米与DUV 28纳米涂胶显影设备等先进制程半导体设备的研发及产业化工作。