存储芯片多制程设计销售及研发流片委托加工项目(浙江省宁波市)
大型

项目地址: 定位

项目概况

更新时间: 2026-03-16(发布:2026-03-16)
项目阶段: 2026-03-16处于立项审批

建设周期: 2026年1季度 - 2026年4季度

项目类型:教育及研究设施、工业
面积:
投资金额: 62000万
建设性质: 改扩建
甲方类型: 私营企业
项目描述
存储芯片(半导体集成电路)技术改造项目: 1. 建设规模与地点:计划租赁首南街道工业园厂房,租赁面积为----,用于建设存储芯片设计项目。 2. 建设内容:本项目以芯片设计销售为核心业务,同时涵盖研发流片环节。其中,晶圆加工、光刻及封装工序委托第三方代工合作。具体分工如下:研发工作主要由华中科技大学光电国家研究中心(集成电路学院实验室)承担;晶圆加工与光刻环节委托中芯国际、台积电(南京厂)实施;封装工序则委托长电科技、华天科技等企业配套完成。项目设计并销售28nm、14nm、7nm、5nm、3nm及2nm制程的存储芯片产品,产品类型以工业控制芯片、车规级芯片和人工智能内存HBM芯片为主。预计10年内实现年营收500亿至1000亿元人民币规模。
项目工期及阶段
工程备注: 截止(2026年3月16日),该项目处于立项阶段

项目动态 1

2026-03-16
新增人员:

甲方单位联系人

2 位联系人

业主

职位: 项目负责人
备注:项目参与人

设计院联系人

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暂无设计院联系人信息

承建方联系人

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分包方联系人

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