高品质砷化镓晶片项目(湖北省黄冈市)
大型

项目地址: 定位

项目概况

更新时间: 2026-02-10(发布:2026-02-10)
项目阶段: 2026-02-10处于主体施工单位中标

建设周期: 2026年1季度 - 2027年1季度

项目类型:工业、教育及研究设施
面积:
投资金额: 27200万
建设性质: 新建
甲方类型: 私营企业
项目描述
新建厂房及配套设施项目,将整体搬迁现有砷化镓晶片生产线,构建年产70万片6英寸高品质砷化镓晶片生产线,并配套建设年产3万套半导体级46英寸石英管生产线及研发中心,项目总投资27200万元。具体建设内容如下: 1. 6英寸高品质半绝缘砷化镓晶片(衬底)生产线:该生产线产品应用于5G射频前端(手机、基站)、卫星通信、激光器等领域。关键技术指标为电阻率≥1×10⁷Ω·cm,位错密度≤5000cm⁻²。 2. 年产3万套半导体级石英管生产线:此生产线产品作为GaAs单晶生长炉耗材,可实现关键辅材自主可控。
项目工期及阶段
工程备注: 截止(2026年2月10日),该项目处于主体施工阶段

项目动态 1

2026-02-10
新增人员:

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