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高品质砷化镓晶片项目(湖北省黄冈市)
高品质砷化镓晶片项目(湖北省黄冈市)
大型
项目地址:
定位
项目概况
更新时间:
2026-02-10(发布:2026-02-10)
项目阶段:
2026-02-10处于
主体施工单位中标
建设周期:
2026年1季度 - 2027年1季度
项目类型:
工业、教育及研究设施
面积:
投资金额:
27200万
建设性质:
新建
甲方类型:
私营企业
项目描述
新建厂房及配套设施项目,将整体搬迁现有砷化镓晶片生产线,构建年产70万片6英寸高品质砷化镓晶片生产线,并配套建设年产3万套半导体级46英寸石英管生产线及研发中心,项目总投资27200万元。具体建设内容如下: 1. 6英寸高品质半绝缘砷化镓晶片(衬底)生产线:该生产线产品应用于5G射频前端(手机、基站)、卫星通信、激光器等领域。关键技术指标为电阻率≥1×10⁷Ω·cm,位错密度≤5000cm⁻²。 2. 年产3万套半导体级石英管生产线:此生产线产品作为GaAs单晶生长炉耗材,可实现关键辅材自主可控。
项目工期及阶段
工程备注:
截止(2026年2月10日),该项目处于主体施工阶段
项目动态
1
2026-02-10
新增人员:
甲方单位联系人
1
位联系人
业主
单位:
云南鑫耀半导体材料有限公司
职位:
项目负责人
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设计院联系人
0
位联系人
暂无设计院联系人信息
承建方联系人
0
位联系人
暂无承建方联系人信息
分包方联系人
0
位联系人
暂无分包方联系人信息
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