高性能碳化硅刻蚀AR全彩衍射光波导攻关项目(山西烁科晶体有限公司)
大型

项目地址: 定位

项目概况

更新时间: 2026-06-17(发布:2026-06-17)
项目阶段: 2026-06-17处于立项审批

建设周期: 2027年1季度 - 2029年4季度

项目类型:工业
面积:
投资金额: 20500万
建设性质: 新建
甲方类型: 政府部门、国企、事业单位
项目描述
利用山西烁科晶体有限公司中国电科(山西)碳化硅材料产业基地B02、B04厂房,购置碳化硅单晶生长炉、切割机、抛光机等设备,研究光学规格要求的碳化硅晶圆及波导片。项目完成后实现为下游用户提供满足光学规格要求的超低厚度变化的碳化硅晶圆及波导片的能力,满足高性能波导的设计需求。
项目工期及阶段
工程备注: 截止目前2026年6月17日,该项目处于立项阶段,预计2027年1季度开工

项目动态 0

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