年产50万片磷化铟衬底项目(江西芯铟达半导体有限公司)
大型

项目地址: 定位

项目概况

更新时间: 2026-06-18(发布:2026-06-18)
项目阶段: 2026-06-18处于立项审批

建设周期: 2026年3季度 - 2028年2季度

项目类型:工业
面积:
投资金额: 55000万
建设性质: 新建
甲方类型: 私营企业
项目描述
该项目总占地面积为21亩,总建筑面积为17000----米。该项目为租赁厂房。购置主要设备为磷化铟多晶合成炉、磷化铟单晶炉、磷化铟真空焊管机、洁净清洗机、内圆锯、多线切割机、全自动晶圆倒角机、研磨机、上蜡机、下蜡机、粗精抛机、全自动单片清洗机、全自动包半装机。生产工艺流程:购置原材料(高纯度磷、高纯度铟)进行磷化铟多晶合成→单晶生长→晶棒加工→晶棒测试→多线切割→晶圆倒角→清洗→上蜡→粗抛→精抛→下蜡→洁净清洗→包装。该项目产品为2至6英寸磷化铟衬底,主要用于电子信息行业。该项目建成后年耗电2500万度,年综合能耗折合 3072.5吨标准煤。
项目工期及阶段
工程备注: 截止目前2026年6月18日,该项目处于立项阶段

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