年产100台刻蚀机及50台半导体设备项目(安徽矽进微电子科技有限责任公司)
大型

项目地址: 定位

项目概况

更新时间: 2026-07-10(发布:2026-07-10)
项目阶段: 2026-07-10处于立项审批

建设周期: 2026年4季度 - 2027年4季度

项目类型:工业、办公楼、教育及研究设施
面积:
投资金额: 10200万
建设性质: 新建
甲方类型: 私营企业
项目描述
此项目分两期建设: 一期工程:投资总额4000万元,其中固定资产投资1500万元。租赁电子信息产业园5号楼第四层(具体面积以实测为准),建设内容包括生产装配车间、研发中心及办公区,形成年产100台刻蚀机及50台半导体设备的生产能力。 二期工程:投资总额6200万元,其中固定资产投资3500万元。租赁电子信息产业园5号楼第三层,主要建设约----产品展示空间,扩建生产装配车间,新增年产150台半导体设备生产线,并自研b200/s300系列wet process刻蚀设备。
项目工期及阶段
工程备注: 截止(2026年07月10日),该项目处于立项阶段

项目动态 1

2026-07-10
新增人员:

甲方单位联系人

1 位联系人

业主

部门: 公司/单位高层领导
职位: 法人代表
备注:高管

设计院联系人

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