半导体设备生产厂房及DUV光刻元件、TFT-LCD光掩模板生产线扩建与研发检测平台建设项目(上海中晶光学有限公司)

大型

建设内容描述：本项目为新建厂房工程，主要用于半导体及其他设备的生产。工艺流程涵盖混料、氨气烘烤、粉碎、水洗、除磁、烘干、粉体整形、流延、切片、烧结、切制、检测及包装等环节。项目以研发中心为核心平台，同步建设重点项目检测中心、重点实验室，并设立四个院士工作站与两个上海工匠工作室。同时，扩建DUV光刻元件生产线、TFT-LCD光掩模板生产线及国家科技重大专项生产线。地块规划容积率为2.0。