东湖高新区硅基氮化镓半导体产业园区(湖北省武汉市) 大型
项目地址： 
定位
定位 项目概况
更新时间： 2026-08-04（发布：2026-08-04）
项目阶段： 2026-08-04处于立项审批
建设周期： 2026年4季度 - 2028年2季度
项目类型：工业
面积：
投资金额： 250000万
建设性质： 新建
甲方类型： 政府部门、国企、事业单位
项目描述
总用地面积约158665.08----米（具体以用地红线图为准），总建筑面积约23.3万方，主要建设生产厂房，研发厂房及配套设施，主要用于硅基氮化镓芯片生产制造
项目工期及阶段
工程备注： 截止(2026年8月4日)，该项目处于立项阶段
项目动态 0
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