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英诺赛科二期改造项目(英诺赛科(苏州)半导体有限公司)
英诺赛科二期改造项目(英诺赛科(苏州)半导体有限公司)
大型
项目地址:
定位
项目概况
更新时间:
2026-05-15(发布:2026-05-15)
项目阶段:
2026-05-15处于
立项审批
建设周期:
2025年10月 - 2027年6月
项目类型:
工业
面积:
投资金额:
17426.27万
建设性质:
改扩建
甲方类型:
私营企业
项目描述
利用自有厂房,购置有机化学气相沉积机、光刻机、金属刻蚀机等各类生产、检测及辅助设备约239台(套),建设年产72万片8英寸硅基氮化镓芯片扩建项目,建成后年产8英寸硅基氮化镓功率芯片72万片。
项目工期及阶段
工程备注:
截止(2026年5月15日),该项目处于立项阶段
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业主
单位:
英诺赛科(苏州)半导体有限公司
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