集成电路制造装备高性能工艺电源研发和产业化基地(湖北省武汉市)

项目地址: 定位

项目概况

更新时间: 2026-10-28(发布:2026-10-28)
项目阶段: 2026-10-28处于立项审批

建设周期: --

项目类型:工业、教育及研究设施、工业、教育及研究设施
面积:
投资金额: 1200万
建设性质: 新建
甲方类型: 私营企业
项目描述
租赁厂房,购置等离子腔体电源测试平台、射频电源测试平台、工业真空器件测试平台等设备,建设半导体制造设备工艺电源研发实验室和产线、工业真空器件研发实验室和产线,设计产能工艺电源3000件/年、工业真空器件1000件/年。
项目工期及阶段
工程备注: 截止(2026年10月28日),该项目处于立项阶段,预计2027年1季度开工

项目动态 1

2026-10-28
新增人员:

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